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   よりよい技術や製品を生み出そうと情熱を燃やすエンジニアたち。そんな彼らを影ながら支える基礎技術もまた、着実な歩みを見せている。今回は、燃える情熱はそのままに、本当に「熱い」機械を冷ます、冷却の話である。
 
 2年ほど前、ノートPCの水冷技術が日立から発表された記事を書いた時、ほとんどの人が熱密度の上昇が続くPC向けプロセッサの冷却技術として受け止めていた。しかし今日、エレクトロニクス製品の冷却問題は、より深刻で広範なものとして捉えられている。急速な半導体技術の向上と、半導体製品に依存する製品の性能向上を求めるニーズにより、増大する消費電力をいかに処理するかは、エレクトロニクス業界全体が共有する問題になりつつあるからだ。
 
 
 水冷技術(もしくは液冷技術)といっても、水などの液体で直接デバイスを冷やすわけではない。ご存じのように水冷技術は、液体を冷媒として用い別の場所に移動させてからラジエータで冷却を行う。したがって、冷却可能な熱量(言い換えれば単位時間あたりに放出できる熱量)は、冷媒の性質とラジエータの性能によってほぼ決まる。
 つまり水冷だからよく冷えるのではなく、水冷で別の場所に熱を運ぶことで、より高性能なラジエータを用いることができるから冷やしやすいのが水冷技術だ。

 コンシューマ製品の場合、水冷技術は静音化の手段として用いられることが多い。狭い筐体内で空気をかき混ぜながらデバイスを冷やすのではなく、一カ所に熱を集中させ、風量の大きな(サイズの大きい)冷却ファンとラジエータで効率よく熱を排出できるからだ。
 某社の静かさをウリにしたパソコンがその代表例だが、ハードディスクや高性能デバイスを限られたサイズに詰め込んだハイブリッドレコーダなども、近年は冷却ファンの静粛性向上に悩んでいる。

 しかし、エンタープライズサーバや通信機器向けとなると、静粛性が求められることはない。しかも、最新の高性能プロセッサを複数搭載した1Uブレードサーバでさえ、空冷で充分に冷やすことができている。ならば、水冷技術など不要ではないか? と思うのも無理はない。
 では本当に不要なのだろうか? そんなことはない。水冷技術を別の視点から用いることで、機器の性能を高めることができるからだ。

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