（号外政府調達第　　号） 報 官 水曜日 平成　　年　　月　　日 ３ 説明書の交付　本公表に基づき応募する供給 者に対して導入説明書を交付する。 ￥　交付期間　平成２３年１０月２６日から平成２３年 １１月２８日まで。 ］　交付場所　上記２］に同じ。 ４　説明会の開催　本公表に基づく導入説明会を 開催する。 ￥　開催日時　平成２３年１１月２日１４時００分 ］　開催場所　東京工業大学財務部契約課入札 室 ５　その他　この導入計画の詳細は導入説明書に よる。なお、本公表内容は予定であり、変更す ることがあり得る。 ６　Ｓｕｍｍａｒｙ ￥　Ｃｌａｓｓｉｆｉｃａｔｉｏｎ　ｏｆ　ｔｈｅ　ｐｒｏｄｕｃｔｓ　ｔｏ　ｂｅ　ｐｒｏｃｕｒｅｄ　：　１４ ］　Ｎａｔｕｒｅ　ａｎｄ　ｑｕａｎｔｉｔｙ　ｏｆ　ｔｈｅ　ｐｒｏｄｕｃｔｓ　ｔｏ　ｂｅ ｒｅｎｔ　：　Ｌｉｂｒａｒｙ　ｃｏｍｐｕｔｅｒ　ｓｙｓｔｅｍ　１　Ｓｅｔ ＾　Ｔｙｐｅ　ｏｆ　ｔｈｅ　ｐｒｏｃｕｒｅｍｅｎｔ　：　Ｒｅｎｔ ＿　Ｂａｓｉｃ　ｒｅｑｕｉｒｅｍｅｎｔｓ　ｏｆ　ｔｈｅ　ｐｒｏｃｕｒｅｍｅｎｔ　： Ａ　Ｔｈｉｓ　ｓｙｓｔｅｍ　ｉｓ　ａ　ｌｉｂｒａｒｙ　ｃｏｍｐｕｔｅｒ　ｓｙｓｔｅｍ．　Ｔｈｅ　ｓｙｓｔｅｍ　ｓｈｏｕｌｄ　ｈａｖｅ　ｈｉｇｈ　ｓｐｅｅｄ ａｎｄ　ｔｈｅ　ｓｔａｂｌｅ　ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ，　ａｎｄ　ｃａｒｒｙ ｏｕｔ　ｃｏｎｔｉｎｕｏｕｓ　ｏｐｅｒａｔｉｏｎ　ｏｆ　ｔｈｅ　ｌｏｎｇ　ｐｅｒｉｏｄ　ｏｆ　ｔｉｍｅ． Ｂ　Ｔｈｅ　ｓｙｓｔｅｍ　ｓｈｏｕｌｄ　ｂｅ　ｄｅｖｅｌｏｐｅｄ　ｏｎ　ａ ｃｌｉｅｎｔ‐ｓｅｒｖｅｒ　ｓｙｓｔｅｍ．　Ｔｈｅ　ｓｙｓｔｅｍ　ｓｈｏｕｌｄ ｍａｎａｇｅ　ｄａｔａ　ａｎｄ　ｐｒｏｇｒａｍ　ｉｎ　ｔｈｅ　ｓｅｒｖｅｒｓｉｄｅ　ａｓ　ｍｕｃｈ　ａｓ　ｐｏｓｓｉｂｌｅ．　Ｐｕｔ　ｍｉｎｉｍｕｍ ｐｒｏｇｒａｍ　ａｎｄ　ｄａｔａ　ｉｎ　ｔｈｅ　ｃｌｉｅｎｔｓ‐ｓｉｄｅ． Ｃ　Ｔｈｅ　ｓｙｓｔｅｍ　ｓｈｏｕｌｄ　ｃｏｎｎｅｃｔ　ｗｉｔｈ　Ｔｏｋｙｏ Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ　ｏｆ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ　ｈｉｇｈ‐ｓｐｅｅｄ　ｃａｍｐｕｓ　ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ　ｎｅｔｗｏｒｋ　（Ｔｉｔａｎｅｔ３）　ａｆｔｅｒ ｇｉｖｉｎｇ　ｒｅｑｕｉｒｅｄ　ａｎｄ　ｓｕｆｆｉｃｉｅｎｔ　ｓｅｃｕｒｉｔｙ ｍａｎａｇｅｍｅｎｔ，　ａｎｄ　ｓｈａｒｅ　ｔｈｅ　ｓｙｓｔｅｍ　ｒｅｓｏｕｒｃｅｓ． Ｄ　Ｔｈｅ　ｓｙｓｔｅｍ　ｓｈｏｕｌｄ　ｂｕｉｌｄ　ｔｈｅ　ｔｈｏｒｏｕｇｈｇｏｉｎｇ　ｂａｃｋｕｐ　ｆｕｎｃｔｉｏｎ　ｏｆ　ａ　ｓｙｓｔｅｍ ａｎｄ　ｄａｔａ．　Ｍｏｒｅｏｖｅｒ，　ｔｈｅ　ｍａｉｎｔｅｎａｎｃｅ　ｓｅｒｖｉｃｅ　ｓｈｏｕｌｄ　ｂｅ　ａｂｌｅ　ｔｏ　ａｃｔ　ｉｍｍｅｄｉａｔｅｌｙ　ｆｏｒ ｔｈｅ　ｏｂｓｔａｃｌｅ　ｏｆ　ａ　ｓｙｓｔｅｍ　ｅｔｃ． Ｅ　Ｔｈｅ　ｓｙｓｔｅｍ　ｓｈｏｕｌｄ　ｂｅ　ａｂｌｅ　ｔｏ　ｃｏｒｒｅｓｐｏｎｄ　ｔｏ　ｔｈｅ　Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅｓ　ｃａｍｐｕｓ　ａｎｄ　ｕｓｅｒ ｓｉｔｕａｔｉｏｎ　ｗｈｅｒｅ　ｔｈｅｒｅ　ａｒｅ　ｔｈｒｅｅ　ｃａｍｐｕｓｅｓ ｓｕｃｈ　ａｓ，　Ｏｏｋａｙａｍａ，　Ｓｕｚｕｋａｋｅｄａｉ，　Ｔａｍａｃｈｉ，　ａｎｄ　ｔｗｏ　ｌｉｂｒａｒｉｅｓ　ｓｕｃｈ　ａｓ　Ｏｏｋａｙａｍａ　Ｌｉｂｒａｒｙ　ａｎｄ　Ｓｕｚｕｋａｋｅｄａｉ　Ｌｉｂｒａｒｙ． Ｔｈｅ　ｓｙｓｔｅｍ　ｓｈｏｕｌｄ　ｔｏｔａｌｌｙ　ｍａｎａｇｅ　ｔｈｅ ｌｉｂｒａｒｙ　ｓｅｒｖｉｃｅｓ，　ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ　ｏｒｄｅｒｉｎｇ，　ａｃｑｕｉｓｉｔｉｏｎ，　ｐａｙｍｅｎｔ，　ｒｅｇｉｓｔｒａｔｉｏｎ，　ｃａｔａｌｏｇｉｎｇ，　ｃｉｒｃｕｌａｔｉｏｎ，　ｉｎｔｅｒｌｉｂｒａｒｙ　ｌｏａｎ，　ａｎｄ　ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ　ｒｅｔｒｉｅｖａｌ　ｓｅｒｖｉｃｅｓ　ｗｉｔｈ　ｔｈｅ ｎｅｗｅｓｔ　ｆｕｎｃｔｉｏｎｓ　ｏｆ　ＮＩＩ　（Ｎａｔｉｏｎａｌ　Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ　ｏｆ　Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｃｓ）　ＮＡＣＳＩＳ‐ＣＡＴ／ＩＬＬ ｓｙｓｔｅｍ．　Ｔｈｅ　ｓｙｓｔｅｍ　ｓｈｏｕｌｄ　ｈａｖｅ　ａｕｔｏｍａｔｅｄ　ｍｏｄｕｌｅｓ　ｏｎ　ｅａｃｈ　ｆｕｎｃｔｉｏｎ　ｉｎ　ｃｏｏｐｅｒａｔｉｏｎ　ｗｉｔｈ　ｔｈｅ　Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅｓ　ｆｉｎａｎｃｉａｌ　ｍａｎａｇｅｍｅｎｔ　ｓｙｓｔｅｍ　ａｎｄ　ｖｅｎｄｏｒｓ　ｏｒｄｅｒｉｎｇ　ｓｙｓｔｅｍ． Ｇ　Ｔｈｅ　ｓｙｓｔｅｍ　ｓｈｏｕｌｄ　ｂｅ　ａｂｌｅ　ｔｏ　ａｃｃｕｍｕｌａｔｅ　ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃａｌｌｙ　ｔｈｅ　ｖａｒｉｏｕｓ　ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ　ｄａｔａ　ｗｈｉｃｈ　ｔｈｅ　Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ　ｏｗｎｓ，　ａｎｄ　ｔｏ ｒｅｔｒｉｅｖｅ　ｔｈｅｍ． Ｈ　Ｔｈｅ　ｓｙｓｔｅｍ　ｓｈｏｕｌｄ　ｐｒｏｖｉｄｅ　ｃｒｏｓｓｓｅａｒｃｈｉｎｇ　ａｎｄ　ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ　ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ　ｓｅｒｖｉｃｅ　ｉｎ　ｔｅｒｍｓ　ｏｆ　ｔｈｅ　ｄａｔａｂａｓｅｓ　ｈｅｌｄ　ｏｎ　ｔｈｉｓ ｓｙｓｔｅｍ，　Ｉｎｓｔｉｔｕｔｉｏｎａｌ　Ｒｅｐｏｓｉｔｏｒｙ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ　（Ｔｏｋｙｏ　Ｔｅｃｈ　ＳＴＡＲ），　ｒｅｓｅａｒｃｈｅｒ ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ　ｒｅｔｒｉｅｖａｌ　ｓｙｓｔｅｍ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ，　ｅｘｔｅｒｎａｌ　ｄａｔａｂａｓｅｓ，　ａｎｄ　ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ ｊｏｕｒｎａｌｓ，　ｅｔｃ． Ｉ　Ｔｈｅ　ｓｙｓｔｅｍ　ｓｈｏｕｌｄ　ｂｅ　ａｂｌｅ　ｔｏ　ｐｒｏｖｉｄｅ ｔｈｅ　ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ，　ｓｉｔｕａｔｉｏｎ　ｃｈｅｃｋ，　ａｎｄ　ｔｈｅ ｒｅｐｌｙ　ｔｏ　ｔｈｅ　ｕｓｅｒｓ　ｖｉａ　ＷＷＷ　ｂｒｏｗｓｅｒｓ ａｂｏｕｔ　ｄｏｃｕｍｅｎｔ　ｄｅｌｉｖｅｒｙ　ｓｅｒｖｉｃｅ　ａｎｄ　ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ　ｓｅｒｖｉｃｅ，　ｅｔｃ． Ｊ　Ｔｈｅ　ｓｙｓｔｅｍ　ｓｈｏｕｌｄ　ｂｅ　ａｂｌｅ　ｔｏ　ａｕｔｈｅｎｔｉｃａｔｅ　ｍｅｍｂｅｒｓ　ｗｈｏ　ｂｅｌｏｎｇ　ｔｏ　ｔｈｅ　Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ　ｂｙ　ｕｓｉｎｇ　ｔｈｅ　Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅｓ　Ｃａｍｐｕｓｗｉｄｅ　ａｎｄ　Ａｕｔｈｏｒｉｚａｔｉｏｎ　Ｓｙｓｔｅｍ． Ｋ　Ｔｈｅ　ｓｙｓｔｅｍ　ｓｈｏｕｌｄ　ｉｍｐｒｏｖｅ　ｆｌｅｘｉｂｌｙ　ｆｏｒ ｃｈａｎｇｅｓ　ａｎｄ　ｅｘｔｅｎｓｉｂｉｌｉｔｙ　ｉｎ　ｔｅｒｍｓ　ｏｆ ｔｅｃｈｎｉｃａｌ　ｐｒｏｇｒｅｓｓ，　ｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙ　ａｎｄ　ｓｐｅｃｉｆｉｃａｔｉｏｎｓ　ｏｆ　ｅｘｔｅｒｎａｌ　ｓｙｓｔｅｍｓ． Ｌ　Ｓｗｉｆｔ　ａｎｄ　ｓｍｏｏｔｈ　ｍｉｇｒａｔｉｏｎ　ｆｒｏｍ　ｔｈｅ ｐｒｅｓｅｎｔ　ｓｙｓｔｅｍ　ｓｈｏｕｌｄ　ｂｅ　ｅｎｓｕｒｅｄ，　ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ　ｔｈｅ　ｉｎｈｅｒｉｔａｎｃｅ　ｏｆ　ｃｕｒｒｅｎｔ　ｐｒｏｐｅｒｔｙ． Ｍ　Ｔｈｅ　ｃｏｎｔｒａｃｔｏｒ　ｓｈｏｕｌｄ　ｃａｒｒｙ　ｏｕｔ　ｔｈｅ ｅｄｕｃａｔｉｏｎ　ａｎｄ　ｔｒａｉｎｉｎｇ　ｆｏｒ　ｌｉｂｒａｒｙ　ｓｔａｆｆ ｆｏｒ　ｓｍｏｏｔｈ　ｏｐｅｒａｔｉｏｎ　ａｆｔｅｒ　ｔｈｅ　ｓｙｓｔｅｍ　ｉｎｔｒｏｄｕｃｔｉｏｎ． Ｆ ‘ Ｔｉｍｅ　ｌｉｍｉｔ　ｆｏｒ　ｔｈｅ　ｓｕｂｍｉｓｓｉｏｎ　ｏｆ　ｔｈｅ　ｒｅ‐　２　資料及びコメントの提供方法　上記１］の物 品に関する一般的な参考資料及び同‘の要求要 ｑｕｅｓｔｅｄ　ｍａｔｅｒｉａｌ　：　５　：　００　ＰＭ　２８，　Ｎｏｖｅｍｂｅｒ， 件等に関するコメント並びに提供可能なライブ ２０１１ ラリーに関する資料等の提供を招請する。 ａ　Ｃｏｎｔａｃｔ　ｐｏｉｎｔ　ｆｏｒ　ｔｈｅ　ｎｏｔｉｃｅ　：　Ｎａｏｋｉ ￥　資料等の提供期限　平成２３年１２月１日１７時 Ｏｋｕｄａ，　Ｃｏｎｔｒａｃｔ　Ｄｉｖｉｓｉｏｎ，　Ｆｉｎａｎｃｅ　Ｄｅｐａｒｔ００分（郵送の場合は必着のこと。 ） ｍｅｎｔ，　Ｔｏｋｙｏ　Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ　ｏｆ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，　２‘ ］　提供先　〒４６６‘８５５５　名古屋市昭和区御器 １２‘１　Ｏｏｋａｙａｍａ，　Ｍｅｇｕｒｏ‐ｋｕ，　Ｔｏｋｙｏ　１５２‘ 所町字木市２９番　名古屋工業大学経理チーム ８５５０　Ｊａｐａｎ，　ＴＥＬ　０３‘５７３４‘２３５３ マネージャー（領域担当）　川那　武史　電 資料提供招請に関する公表 話０５２‘７３５‘５０３９ 次のとおり物品の導入を予定していますので、　３　説明書の交付　本公表に基づき応募する供給 者に対して導入説明書を交付する。 当該導入に関して資料等の提供を招請します。 ￥　交付期間　平成２３年１０月２６日から平成２３年 平成　２３　年　１０　月　２６　日 １２月１日まで。 国立大学法人名古屋工業大学 ］　交付場所　上記２］に同じ。 事務局長　前田　千尋 ４　説明会の開催　本公表に基づく導入説明会を ◎調達機関番号　４１５　◎所在地番号　２３ 開催する。 〇第１号 ￥　開催日時　平成２３年１１月７日１０時００分 １　調達内容 ］　開催場所　名古屋工業大学事務局会議室 ￥　品目分類番号　２４ ５　その他　この導入計画の詳細は導入説明書に ］　導入計画物品及び数量　有機金属気相成長 よる。なお、本公表内容は予定であり、変更す 装置システム　一式 ることがあり得る。 ＾　調達方法　購入等 ６　Ｓｕｍｍａｒｙ ＿　導入予定時期　平成２４年度３月以降 ￥　Ｃｌａｓｓｉｆｉｃａｔｉｏｎ　ｏｆ　ｔｈｅ　ｐｒｏｄｕｃｔｓ　ｔｏ　ｂｅ　ｐｒｏ‘　調達に必要とされる基本的な要求要件 ｃｕｒｅｄ　：　２４ Ａ　ＭＯＣＶＤ装置（２台）　多数枚の基板 ］　Ｎａｔｕｒｅ　ａｎｄ　ｑｕａｎｔｉｔｙ　ｏｆ　ｔｈｅ　ｐｒｏｄｕｃｔｓ　ｔｏ　ｂｅ 上に常圧及び減圧下でＧａＮ系薄膜が形成 ｐｕｒｃｈａｓｅｄ　：　Ｍｅｔａｌ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｖａｐｏｒ 出来ること。成長中にその場観察が可能な Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ　Ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ　Ｓｙｓｔｅｍ　１　Ｓｅｔ こと。 ＾　Ｔｙｐｅ　ｏｆ　ｔｈｅ　ｐｒｏｃｕｒｅｍｅｎｔ　：　Ｐｕｒｃｈａｓｅ Ｂ　ドライ洗浄装置　ＭＯＣＶＤ装置で使用 ＿　Ｂａｓｉｃ　ｒｅｑｕｉｒｅｍｅｎｔｓ　ｏｆ　ｔｈｅ　ｐｒｏｃｕｒｅｍｅｎｔ　： する反応炉内高純度石英製リアクター内部 Ａ　ＭＯＣＶＤ　（２　ｅｑｕｉｐｍｅｎｔｓ）　：　ＭＯＣＶＤ　ｆａ品を加熱下、塩素系ガスでエッチング出来 ｃｉｌｉｔｙ　ｉｓ　ｃａｐａｂｌｅ　ｏｆ　ｇｒｏｗｉｎｇ　Ｇａｌｌｉｕｍ　Ｎｉｔること。 ｒｉｄｅ　ｒｅｌａｔｅｄ　ｔｈｉｎ‐ｆｉｌｍｓ　ｏｎ　ｍｕｌｔｉ‐ｓｕｂｓｔｒａｔｅｓ Ｃ　配管設備　ＭＯＣＶＤ装置への原料供給 ｕｎｄｅｒ　ｂｏｔｈ　ａｔｍｏｓｐｈｅｒｉｃ　ａｎｄ　ｌｏｗ　ｐｒｅｓｓｕｒｅ． 設備、除害設備、ドライ洗浄装置、ガス警 Ｉｎ‐ｓｉｔｕ　ｍｏｎｉｔｏｒｉｎｇ　ｄｕｒｉｎｇ　ｃｒｙｓｔａｌ　ｇｒｏｗｔｈ 報設備及びこれらを結ぶ配管を有するこ ｉｓ　ｒｅｑｕｉｒｅｄ． と。 Ｂ　Ｄｒｙ　Ｃｌｅａｎｉｎｇ　Ｆａｃｉｌｉｔｙ　：　Ｄｒｙ　ｃｌｅａｎｉｎｇ　ｆａＤ　供給設備　ＭＯＣＶＤ装置用に有機金属 ｃｉｌｉｔｙ　ｉｓ　ｃａｐａｂｌｅ　ｏｆ　ｃｌｅａｎｉｎｇ　ｈｉｇｈ‐ｐｕｒｉｔｙ 系、水素化物系、キャリアガス及びドライ ｑｕａｒｔｚ　ｐａｒｔｓ　ｕｓｅｄ　ｉｎ　ＭＯＣＶＤ　ｒｅａｃｔｏｒｓ　ｂｙ 洗浄装置用に塩素系ガスを有すること。 ｃｈｌｏｒｉｎｅ　ｇａｓ　ｕｎｄｅｒ　ｈｅａｔ． Ｅ　除害設備　ＭＯＣＶＤ装置やドライ洗浄 Ｃ　Ｐｉｐｉｎｇ　Ｓｙｓｔｅｍ　：　Ｐｉｐｉｎｇ　ｓｙｓｔｅｍ　ｉｎｃｌｕ装置から排出されるガスの除害塔、中和す ｄｅｓ　；　ｓｕｐｐｌｙ　ｆａｃｉｌｉｔｉｅｓ，　ＭＯＣＶＤｓ，　ｇａｓ　ａｂａるための薬液及び廃液タンクを有するこ ｔｅｍｅｎｔ　ｆａｃｉｌｉｔｉｅｓ，　ｄｒｙ　ｃｌｅａｎｉｎｇ　ｆａｃｉｌｉｔｙ， ａｎｄ　ｇａｓ　ａｌａｒｍ　ｓｙｓｔｅｍ． と。